원리 및 기능

UV-Vis-NIR 분광법은 자외선(UV), 가시광선(Vis), 근적외선(NIR) 분광법을 결합하여 빛과 물질의 상호 작용을 연구하고 분석하는 기술이다. 이 기술은 자외선부터 가시광선, 근적외선 영역까지 일반적으로 190-2,500nm의 광범위한 파장을 포괄하고 있다. UV-Vis-NIR 분광법은 물질의 전자 및 분자 구조에 대한 통찰력을 제공한다.

 

기기활용

• 재료 광학 특성 분석: 반도체·코팅·광학 소재의 흡수·반사·투과 특성을 평가해 조성, 굴절률, 박막 두께 등을 파악
• 태양전지 품질 관리: 태양광 소재의 반사율·투과율을 측정해 효율성과 성능을 검증
• 나노물질 특성 분석: 금속 나노입자·양자점 등의 크기, 모양, 안정성, 광학적 특성을 분석
• 첨단 소재 연구: 밴드갭, 전자전이 등 광·전자적 특성을 측정해 신소재 성능 최적화에 활용

사양

• Z-높이(Z-Height): 20 mm
• 광도 범위(Absorbance Range): 최대 8 Abs
• 광원(Light Source): 텅스텐 할로겐(Vis), 중수소 아크(UV)
• 스펙트럼 띠너비(Spectral Bandwidth):

1. UV-Vis: 0.01–5.00 nm
2. NIR: 0.04–20 nm

• 최대 스캐닝 속도(Max Scan Speed):

1. UV-Vis: 2,000 nm/min
2. NIR: 8,000 nm/min

• 측광 방식(Photometric System): 더블 빔(Double Beam)
• 파장 범위(Wavelength Range): 175–3300 nm